中国的芯片刻片机,中国的芯片刻片机有哪些

大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于中国的芯片刻片机的问题，于是小编就整理了1个相关介绍中国的芯片刻片机的解答，让我们一起看看吧。

中微7纳米芯片刻蚀机是否已经达到世界先进水平？

从今日报道来看，中国7纳米芯片刻蚀机已经取得了巨大的突破。根据央视财经发布的消息来看，似乎7纳米芯片刻蚀机已经达到世界先进水平。

也许一般人看到这个刻蚀机有点迷茫，到底是什么？其实刻蚀机主要应用在半导体行业，对于国产芯片发展来说有着举足轻重的作用。也这一次中国自主研发的第一台7纳米刻蚀机面世，将使得中国半导体行业又向前迈进一大步。该7纳米刻蚀机将在中国芯片制造和微观加工方面发挥重要的作用，也是最核心的设备之一。而且7纳米相当于头发丝大小，这样是目前人类微观加工的极限，而此前中国还是使用28纳米的加工水平，现在随着7纳米芯片刻蚀机的国产化。更重要的是现在中微AMEC正在研制目前世界最先进的5纳米等离子刻蚀机。如今，中国芯片制造装备，终于与世界最先进水平同步！

再来看世界水平怎么样？其实目前世界半导体企业如台积电、三星等商业主体都在10nm阶段，但是两者也同样在研发7nm技术，尤其是台积电已经也研发出了7nm技术。三星据说也将在今年研发完成。而现在中国中微正式宣布掌握5 nm技术，这说明国内在半导体方面已经具有技术优势。一直在这一领域没有任何话语权的中国内地半导体企业能够弯道超车！

那么这个5 nm又意味着什么？目前，海外巨头芯片还在研究10纳米，7纳米技术时，而中国已经宣布正式掌握5 纳米技术，它的复杂度要做到人的头发丝万分之一这么小的结构，在一粒大米上微雕最好能放200个字，他的刻蚀机可以刻10亿个中文字。这说明在半导体核心技术上中国占据了世界的最高点。

可以说已经达到世界先进水平了，原因如下：

参考台积电的7nm制程设备采购策略，台积电将应用材料(Applied Materials)、科林研发(LAM) 、东京威力科创(TEL)、日立先端(Hitach)、中微半导体纳入采购名单。可以说明台积电对中微半导体设备的认可。

注1：台积电背景

台积电是全球的芯片代工厂巨头，是可以和三星，因特尔这些巨头排在一起的！（指芯片制作方面）

注2：关于某有网友说到良率的问题

我认为这些网友要么是喷子要么就是不懂装懂。台积电都已经考虑了中半导体的设备了，这不说明了中微半导体设备的质量了吗？

注3：芯片的设计制造涉及到上千道工序，我们国家并没有在每到工序上都落后于国外，相反，我们在封装测试以及一些设备制造上是处于世界先进行列的！

附一个等离子刻蚀机设备的图片

首先是恭喜中微7纳米芯片蚀刻机的成功，蚀刻机是半导体制造中的重要一环，但不是最关键的，蚀刻机与光刻机并不是一回事，我们平时所说的28纳米、14纳米、10纳米是指光刻机，所以请先认清现实，不要着急沸腾，不要着急自豪。虽然可刻蚀机的技术含量与光刻机相去甚远，但是依然是值得称赞的，中微做的不错。

先看一下半导体的大致制作流程，这里面的Etching蚀刻就是问题中提到的中微7纳米芯片刻蚀机，Etch机台与光刻机比技术含量不是一个量级，国内做光刻机的是上海微电子，但是上海微电子的光刻机产品水平还很落后，三星、台积电、Intel这些Fab大厂用的光刻机都是荷兰ASML的产品而且他们还是ASML的股东，再差一点就是尼康和佳能（对，就是生产相机的那两家，不过先进的FAB厂也已经没人用了）

蚀刻机大概就是下图这样的，等离子体干法刻蚀机简称ICP，也就是新闻里提到的刻蚀机。

光刻机是下面这样的，全球能产EUV光刻机的只有荷兰ASML公司了，在2016年他们总共卖出18台EUV光刻机，总价值超过20亿欧元，就是下图这样的机器一台的价值就超过一亿欧，是不是很贵？确实太贵了，但是没办法，全球最先进的光刻机只有ASML能生产，你想制造16纳米/14纳米，10纳米的芯片只能用ASML的光刻机，而光刻是半导体生产环节里最重要，技术含量最高的环节。

在半导体制造领域，各个领域都有国产厂商的身影，但是做的好的很少，其中北方微电子的PVD以及问题中提到的Etch属于里面还不错的，这两个领域技术含量也相对较低。

到此，以上就是小编对于中国的芯片刻片机的问题就介绍到这了，希望介绍关于中国的芯片刻片机的1点解答对大家有用。