芯片光刻机马云,芯片光刻机巨头

大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于芯片光刻机马云的问题，于是小编就整理了1个相关介绍芯片光刻机马云的解答，让我们一起看看吧。

《大国重器》第二季我国7NM芯片已经做出来了，这个距离上市还有多远？

大国重器里说的是蚀刻机已经达到了7nm制程，并不是已经能够生产7nm的芯片。

《大国重器》里面提到的是蚀刻机（或者又叫刻蚀机），这种装置的制程中国已经量产了7nm制程级别的，而且已经被台积电采购、用于生产，所以那些喊着吹牛的人就可以去歇着了。同时，5nm制程的蚀刻机也在研发之中，听说进展相当顺利。

↑大国重器中的中国蚀刻机（片中用的是刻蚀机）↑

但是，芯片的制造远远不是只有一个蚀刻机就行的，因为芯片还有一个更为关键的过程：光刻，因此需要使用叫做“光刻机”的装置。

↑光刻机的原理图↑

简单来说，光刻过程就是要把金属表面的光刻胶侵蚀成我们需要的形状，而光刻胶被侵蚀之后就要对金属表面进行蚀刻，用化学物质或者等离子体把没有覆盖光刻胶的那部分给侵蚀掉，最后的结果当然是留下了我们需要的电路形状。

下面这张图上半部分就是光刻，下半部分就是蚀刻，分别要用光刻机和蚀刻机。这两种设备在芯片制造过程中缺一不可。

↑大规模集成电路的制造过程↑

心累，都纳米级了，100如何1又如何，大不了我们回到10年前，暂时用100纳米的，不就电脑手机重个几百克，相比30年前总是进步大大的，支持下国产，我们13亿人口难道还撑不起一个自己的标准，自己的应用平台，找那么多借口干嘛，心累，苹果再好用，国难当前，什么舍弃不了，大不了用回pb机又如何，民族尊严国之命脉，除了少部分的精英积攒了多少美国资产舍不得，犹犹豫豫，对我等小民而言，没车开可以自行车，没电脑重新看有线电视，没手机我们可以重新围坐一起，比起抱着手机大家是不是更亲热了

《大国重器》是一部不错的纪录片，第二季也是干货满满，我国不管是空天，基建，海洋，通信还是智造近年来都取得了不错的成就，不过也不得不承认，很多地方与世界一流水平还是有差距的。

7nm的刻蚀机 不代表可以生产7nm芯片

中微作为一家半导体公司，代表了我国在半导体的最高成就，已经成功研制出了7nm刻蚀机，达到世界一流水平，并且成功打入台积电，台积电的刻蚀机主要有五大供应商，分别是应用材料，科林研发，东京威力科创，日立先端和中微，中维是唯一一家本国企业。

能生产7nm刻蚀机，不代表可以生产7nm级别芯片，还有一项关键技术光刻机，高端的光刻机我们基本属于空白，光刻机是将掩膜版上的电路复制到硅圆晶片上面，刻蚀机则是在晶片上雕刻，目前能生产7nm芯片的只有台湾的台积电和韩国三星，国内只有中芯科技能够制28nm级别芯片（14nm还没有量产），这个差距不是一点点的，所以还得加油。

芯片非一朝一夕 有火种就有希望

目前国内芯片还处于起步阶段，江丰的靶标，中微的刻蚀机，汉微科的e–beam等等都是很好的例子，这些企业就像是或者，虽然现在火光很小，但是星星之火可以燎原，只要把握机会，抓住机遇，早晚可以烧到全世界。

芯片不仅仅是一个公司或者几个公司的事情，他与航天，通信等等一样，是一个国家一个民族的命脉，所以请耐心的支持他们。

一般来讲，制造一块集成电路芯片需要上百道工序，可以概括为前道工艺和后道工艺。前道工艺以单晶硅片的加工为起点。以在单晶硅片上制成各种集成电路元件为终点；后道工艺即封装测试环节，以最终制成集成电路产品为终点。在前道和后道工艺中，需要用到大量的制造加工设备，这些设备的制造需要综合 运用光学、物理、化学等科学技术，具有科技含量高，制造难度大，设备价值高等特点。根据工艺流程，集成电路制造环节所需要的设备其中就包括了光刻机和刻蚀机。“光刻”意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。根据光刻机的用途可分为前道光刻机和后道光刻机(即封装光刻机)。我们日常使用手机的CPU制造工艺都离不开光刻机。通常提到的光刻机大多指用于制造芯片的前道光刻机。蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液,经由化学反应以达到蚀刻的目的,化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。刻蚀相对光刻要容易，制作芯片时，光刻机是激光将掩膜版上的电路临时复制到硅晶圆片上，刻蚀机是按光刻机在硅片上刻好的电路结构，在硅片上进行微观雕刻，以刻出沟槽或者接触空。

央视《大国重器》第二季中提到的是中微半导体7nm刻蚀机，这里7NM不是芯片而是设备工艺，是指制作芯片所需的蚀刻机工艺达到了7NM。中微半导体研发的7nm刻蚀机已经投入市场，目前台积电等芯片制造厂商都在使用。事实上我国目前蚀刻机的工艺已经达到世界先进水平。今年底中微或将量产目前世界最先进的5nm等离子刻蚀机。但要制作国产高端芯片还需要国产高端光刻机。相比刻蚀机,国内光刻机工艺则远远落后于世界先进水平。在已量产的国产光刻机中性能最好的是90nm光刻机，不客气地说这属于低端光刻机。至于国内晶圆厂所需的高端光刻机则完全依赖进口。国产高端芯片什么时候能上市就得看国产高端光刻机的研发速度啦。

到此，以上就是小编对于芯片光刻机马云的问题就介绍到这了，希望介绍关于芯片光刻机马云的1点解答对大家有用。